公告摘要:
等離子增強氣相沉積系統(tǒng)、硅基等離子體刻蝕機、InP基等離子體刻蝕機、GaAs基等離子體刻蝕機-公開招標公告
招標公告 1. 招標條件 本招標項目等離子增強氣相沉積系統(tǒng)、硅基等離子體刻蝕機、InP基等離子體刻蝕機、GaAs基等離子體刻蝕機招標人為華中光電技術(shù)研究所(武漢),招標項目資金來自國撥資金,出......
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等離子增強氣相沉積系統(tǒng)、硅基等離子體刻蝕機、InP基等離子體刻蝕機、GaAs基等離子體刻蝕機-公開招標公告
招標公告 1. 招標條件 本招標項目等離子增強氣相沉積系統(tǒng)、硅基等離子體刻蝕機、InP基等離子體刻蝕機、GaAs基等離子體刻蝕機招標人為華中光電技術(shù)研究所(武漢),招標項目資金來自國撥資金,出......
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